工厂转让9成新 湖南宇晶20B双面抛光机 3电机，重7吨/台，用1年多，机器中况良好未磨损。
参数明细：
上(下)盘尺寸:
φ1355×φ457×50(mm)工件厚度：：40(mm)最小：0.5(mm)
工件直径：：φ440(mm)下盘转速：0～50(rpm)游星轮数量：5游星轮参数：Z=170Mn=3上盘压力范围：20～700(Kg)电源／耗电量:3相-380V／30KVA
气源／耗气量：0.5(Mpa)／30(L/min)主机尺寸：2650×1850×2750(mm)机器重量：8000(Kg)
机械优势：
机器采用四电机驱动，下盘、上盘、内齿圈和太阳轮分别由电机单独驱动。
机器整体结构紧凑，运行平稳，有效地缩短各传动轴的长度，增加机器的机械刚度。
内齿圈、太阳轮同步升降并采用点动操作方式。
上盘装置增加机械的安全装置，在摆片、维修等状态下不会因突然故障而下降，增加了安全性。
通过改变内齿圈、太阳轮的速度，调整实现游星轮的正、反转。
产品用途：
本机器主要用于硅片、砷化镓片、陶瓷片、石英晶体及其它半导体材料的双面高精度研磨或抛光，也适用于其它金属、非金属、光学玻璃等硬、脆、薄材料的双面高精度研磨或抛光。
欢迎来厂看机 东莞市茶山镇增卢路新益大厦对面（集友工业村对面）宏诚光学 杨小姐
设备修理与维护参数明细：参数明细：
上(下)盘尺寸:参数明细：
上(下)盘尺寸:
φ1355×φ457×50(mm)工件厚度：：40(mm) 最小：0.5(mm)
工件直径：：φ440(mm)下盘转速：0～50(rpm)游星轮数量：5游星轮参数：Z=170Mn=3上盘压力范围：20～700(Kg)电源／耗电量:3相-380V／30KVA
气源／耗气量：0.5(Mpa)／30(L/min)主机尺寸：2650×1850×2750(mm)机器重量：8000(Kg)
机械优势：